4月14日，集成电路实验中心开放日系列活动第十四场——设备现场精细化培训之紫外曝光机设备专场顺利开展。本次培训聚焦集成电路制造关键装备紫外曝光机，精准对接学科教学与科研实践需求，为参训学生搭建起理论学习与实操认知深度融合的技术平台，持续推动开放日系列活动提质增效、走深走实。

       本次培训重点讲解的紫外曝光机，是集成电路芯片制造及微纳器件制备中图形转移工序的核心设备，其核心功能是将掩膜版上的电路图形，通过紫外光源照射精准转移至涂覆光刻胶的晶圆表面，为后续刻蚀、掺杂等工艺奠定基础。该设备主要由紫外光源系统、掩膜对准平台、曝光腔体、精密控制系统及显影辅助模块构成，可通过调节曝光剂量、曝光时间、对准精度等关键参数，适配不同尺寸晶圆、不同精度图形的制备需求，能满足实验室科研级微纳结构制备与基础工艺实训的双重需求，是掌握图形转移核心技能、熟悉半导体制造全流程的关键实训装备。由于紫外曝光机曝光精度高、工艺稳定性强、适配性广的突出优势，被广泛应用于集成电路芯片制造、MEMS器件、微纳传感器、光电子器件等多个领域，是支撑半导体产业规模化生产、先进制程研发的不可或缺的核心技术支撑，对推动半导体技术迭代升级具有重要意义。

       培训现场，技术人员围绕紫外曝光机展开全维度、精细化教学，从设备核心结构、工作原理、工艺全流程入手，重点讲解了设备参数设置、曝光剂量与时间的精准调控、安全操作规范及日常运维保养等核心内容，结合集成电路芯片图形转移、微纳结构制备等真实科研场景，针对性解读工艺参数匹配、图形精度管控、常见故障排查等实用技巧，通过理论讲授、现场演示、互动答疑相结合的模式，将专业硬核技术转化为易懂易学的知识要点，帮助参训师生夯实理论基础、明晰操作逻辑、深化专业认知。

       此次紫外曝光机设备专场培训，是集成电路实验中心立足人才培养根本、对接半导体产业前沿需求、深化产学研融合的具体实践，进一步丰富了实验中心在集成电路核心装备领域的实训内容，助力学生更好地掌握行业前沿技术、提升专业素养与工程实践能力，为学科建设与人才培养注入新动力。

（集成电路学院、国家示范性微电子学院、集成电路实验中心）