3月26日，集成电路实验中心开放日系列活动第十场——设备现场精细化培训之离子注入机设备专场顺利开展。离子注入技术是一种对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，与常规的热掺杂工艺相比，离子注入技术可对注入剂量、角度、深度、注入位置、横向扩散等方面进行精确控制，克服了常规工艺限制，提高了器件的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗，因此被广泛应用于逻辑芯片、存储器件、功率器件、传感器等高端半导体领域，是支撑芯片性能迭代与产业技术升级的不可或缺的核心技术。       培训现场，技术人员围绕离子注入机的工作原理、核心结构与工艺全流程展开深度讲解，重点针对设备...

      3月25日，在朱晨昕老师的带领下，集成电路实验中心迎来《科学与社会》课程的9名大一学生。此次参观旨在通过零距离接触、沉浸式体验为核心，让学生直观了解集成电路实验环境，认识领域核心设备，为未来的专业学习、科研创新埋下一颗热爱探索的“芯”种子。      参观过程中，同学们认真聆听讲解、积极思考互动，展现出饱满的学习热情与强烈的求知欲望。朱晨昕结合课程知识点，细致讲解了相关实验设备的应用场景与教学价值，帮助同学们更好地理解专业内容。同学们透过观察窗口近距离了解洁净室内部环境，工程师详细介绍了洁净室严格的洁净标准，以及各类机台设备的功能与用途。在实地参观和专业讲解中，同学们...

      3月20日，集成电路实验中心开放日系列活动第九场——设备现场精细化培训之微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）专场顺利举办。MPCVD通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度，适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，一定程度上减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引起的等离子体状态的变化，从而确保单晶生长的持续性，为合成大尺寸单晶金刚石提供有力保证，被广泛应用于先进芯片制造、大功率器件、光学器件、微纳传感器、耐磨涂层等高端领域，是支撑半导体科研创新与产业升级的重...

2026年中国科学技术大学集成电路学院（国家示范性微电子学院）研究生复试工作方案为保证我院2026年研究生招生工作安全、顺利完成，根据《2026年全国硕士研究生招生工作管理规定》、《中国科学技术大学2026年硕士研究生招生复试工作方案》等相关文件精神，结合集成电路学院（国家示范性微电子学院）实际情况，制定本复试工作方案。一、工作原则（一）坚持德、智、体、美、劳全面衡量，宁缺毋滥，保证生源质量。（二）坚持客观、公平、公正、公开。确保政策透明、程序规范、信息公开、监督机制健全。二、组织领导学院成立招生工作领导小组，领导小组全面负责硕士研究生复试招生录取工作的开展及过程监督。三、复试时间及流程安排（一）复试形式及时...

一、复试分数线 第一志愿报考中国科学技术大学集成电路学院（国家示范性微电子学院）硕士研究生，初试成绩达到我院2026年硕士研究生招生复试分数线（包括总分线和单科线）的考生，可以参加我院的研究生复试。                        中国科学技术大学集成电路学院（国家示范性微电子学院）2026年硕士研究生招生复试分数线学科专业报考方向政治外语业务课1业务课2总分电子科学与技术电路与系统50508080320微电子与固体电子学50508080310微电子与固体电子学 （退役大学生士兵专项计划）50508080300集成电路科学与工程集成电路设计与微纳系统50508080310集成电路器件...

根据《中国共产主义青年团章程》和《中国共产主义青年团发展团员工作细则》要求，经本人自愿申请、支部推荐、同学、教师民主评议、团课学习、支部大会讨论、审批，拟吸收黎航剑等15名青年学生发展为2025年新团员。如有不同意见，请于公示期内以电话、邮件等方式实名向微电子学院团委反映。公示时间：2025年12月10日-2025年12月14日联系方式：胡效鸣，63606101，huxm97@ustc.edu.cn（公示已结束）