根据《中国科学技术大学集成电路学院（国家示范性微电子学院）2026年研究生复试工作方案》及相关流程，以下同学进入建议录取名单进行公布。注：1、本名单为上报研究生院审核的建议录取名单，拟录取名单由研究生院统一公示，录取结果以学校及上级部门审核为准。2、招生计划若有调整，以后续通告为准。3、按拟录取专业、考生编号排序。考生编号考生姓名报考专业研究方向学位类型政治理论成绩外国语成绩业务课一成绩业务课二成绩初试...

根据《中华全国学生联合会关于加强和改进高校学生会研究生会建设的指导意见》，为切实增强工作活力、促进工作创新，充分发挥我院学生会、研究生会组织在加强和改进大学生思想政治教育、服务学生全面发展等方面的重要作用，着力完善基层学生组织体系和工作体系，现面向全院本科生公开选拔集成电路学院学生会第五届主席团候选人，面向全院研究生公开选拔集成电路学院研究生会第五届主席团候选人，现将具体事宜通知如下：一、选拔岗位...

       3月26日，集成电路实验中心开放日系列活动第十场——设备现场精细化培训之离子注入机设备专场顺利开展。离子注入技术是一种对半导体表面附近区域进行掺杂的技术，与常规的热掺杂工艺相比，离子注入技术可对注入剂量、角度、深度、注入位置、横向扩散等方面进行精确控制，克服了常规工艺限制，提高了器件的集成度、开启速度、成品率和寿命，降低了成本和功耗，因此被广泛应用于逻辑芯片、存储器件、功率器...

      3月25日，在朱晨昕老师的带领下，集成电路实验中心迎来《科学与社会》课程的9名大一学生。此次参观旨在通过零距离接触、沉浸式体验为核心，让学生直观了解集成电路实验环境，认识领域核心设备，为未来的专业学习、科研创新埋下一颗热爱探索的“芯”种子。      参观过程中，同学们认真聆听讲解、积极思考互动，展现出饱满的学习热情与强烈的求知欲望。朱晨昕结合课程知识点，细致讲解了相关实...

      3月20日，集成电路实验中心开放日系列活动第九场——设备现场精细化培训之微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）专场顺利举办。MPCVD通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度，适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等离子团，一定程度上减少了因气流、气压、气体成分、电压等因素波动引...